SERVICIOS DE IPLEX

Patentes y modelos de utilidad

Transformamos las ideas técnicas en activos de propiedad intelectual y le acompañamos desde la evaluación inicial hasta la tramitación de solicitudes nacionales e internacionales.

ALCANCE Y ENFOQUE

Ámbito de trabajo

Integramos el análisis técnico, la redacción de solicitudes, la respuesta a las comunicaciones de examen y los trámites de registro, coordinando la protección en Corea y en el extranjero.

01

Estado de la técnica y diferencias técnicas

Analizamos la invención y el estado de la técnica para identificar las diferencias técnicas que deben describirse.

02

Redacción y tramitación de patentes

Preparamos la descripción y las reivindicaciones a partir de la documentación técnica y respondemos a las comunicaciones de examen.

03

Protección en Corea y en el extranjero

Coordinamos las solicitudes de patentes y modelos de utilidad con los planes de desarrollo, divulgación y comercialización.

Documentación para la consulta

Prepare la descripción de la invención, los dibujos, las diferencias técnicas, los planes de divulgación y las solicitudes relacionadas.

SISTEMA COREANO DE PROPIEDAD INTELECTUAL

Patentes y modelos de utilidad en Corea

Conozca qué puede protegerse y cómo se desarrolla el examen. Consulte también nuestros artículos sobre preparación de solicitudes y práctica profesional.

Patentes: protección de invenciones técnicas

Las patentes protegen invenciones técnicas de productos o procedimientos. Deben examinarse la novedad, la actividad inventiva y la suficiencia de la descripción; las reivindicaciones delimitan la protección. El derecho nace con el registro y dura, en principio, 20 años desde la solicitud. La estrategia debe considerar el estado de la técnica y la divulgación prevista.

Artículos relacionados

Modelos de utilidad: forma, estructura y combinación

Los modelos de utilidad abarcan dispositivos relativos a la forma, estructura o combinación de artículos, no los métodos en sí. Se registran tras examen y su duración general es de 10 años desde la solicitud. La elección depende de las características técnicas, la vida comercial y la protección necesaria.

Artículos relacionados

Solicitud, examen y respuesta a objeciones

Prepare la solicitud, descripción, reivindicaciones y dibujos necesarios, y compruebe solicitante, inventores y prioridad. Para las solicitudes coreanas actuales, el examen debe pedirse, por regla general, dentro de los tres años desde la presentación. Responda a las objeciones con argumentos y modificaciones admisibles, y gestione las tasas y el estado jurídico tras el registro.

Artículos relacionados

Examen acelerado y solicitudes divisionales

El examen acelerado adelanta el examen de solicitudes que cumplen los requisitos y aportan pruebas; no reduce las exigencias de patentabilidad. Una divisional separa materia dentro de la divulgación original para su examen independiente. Deben valorarse la fase procesal, el plazo permitido, la prohibición de añadir materia y los costes.

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EXPERIENCIAS DE CLIENTES

La experiencia de nuestros clientes

Conozca la experiencia de quienes han trabajado con IPLEX.

OPINIONES DE CLIENTES

HAII Co., Ltd.

¡Rapidez, precisión y un trabajo impecable! Nos gusta que siempre atiendan nuestras necesidades.

Woojin Kang, responsable
OPINIONES DE CLIENTES

Kynix Technology Co., Ltd.

Nos ayudaron amablemente a proteger las tecnologías de distintos componentes, además de la tecnología que el inventor quería patentar.

Byeonghyeon Choi, CEO
OPINIONES DE CLIENTES

Blass Co., Ltd.

Comprenden a fondo incluso las ideas que pueden resultar complejas. Gracias a la amabilidad de nuestro agente de patentes, la primera solicitud transcurrió con facilidad y sin dificultades.

Doha Lee, CEO
OPINIONES DE CLIENTES

Team Dually

Desde la primera consulta hasta la presentación de la solicitud, se comunicaron con rapidez y atendieron lo que necesitábamos. Comprendieron exactamente qué queríamos patentar y se responsabilizaron hasta el final.

Seoyeong Kim, CEO
Todos los serviciosCuestiones de consulta

Su próximo paso en tecnología y propiedad intelectual empieza aquí.