# 改变引用关系，是否等于缩小权利要求范围

以韩国各向异性导电连接方法案为例，分析从属项限定的遗漏、再次审查阶段的修改限制与创造性。

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首页 / 新闻与洞见 新闻与洞见 改变引用关系，是否等于缩小权利要求范围 以韩国各向异性导电连接方法案为例，分析从属项限定的遗漏、再次审查阶段的修改限制与创造性。 专利与实用新型 2026.10.26 已出版 IPLEX 阅读约6分钟 案件涉及何种技术与程序 韩国专利法院在2026年7月8日的2025Heo10348案中驳回了申请人的撤销请求。申请10-2023-0047136于2023年4月10日提出，涉及各向异性导电连接方法：在电极上涂布含金属前驱体及可固化树脂的组合物，与另一电极压合后，利用热或光固化而实现连接。各向异性导电是指导电性随方向而异；金属前驱体是在处理过程中转化为金属的起始物质。 申请人在2024年6月遭到驳回后，修改权利要求并请求再次审查。审查员于同年8月26日不予接受修改，再次作出驳回决定。韩国专利审判院于2025年3月13日驳回其不服请求。随后诉讼分别审查了修改是否合法，以及发明是否具有创造性。 图1：采用各向异性导电组合物连接电极的过程 引用第2项改成第1项，遗漏了什么 修改前，第1项规定基本连接方法；第2项在此基础上增加固化阶段中金属烧结体与固化材料相分离的条件。第3项引用第2项，并限定采用丝网印刷、喷墨等涂布方法。因此，即使没有重复文字，第3项仍包含第1项和第2项的全部限定。 修改后的第3项直接引用第1项，因而不再包含相分离条件。申请人还细化了第1项的固化过程并调整了第3项的涂布方法表述，但法院认为这些修改不等于保留原有限定。说明书展示了使用与不使用相分离诱导剂的电子显微镜照片；照片能说明技术，却不能自行补回权利要求中已删除的条件。 图3：使用与未使用相分离诱导剂的电子显微镜照片 不能只与较宽的独立项比较 韩国《专利法》第47条第3款限制再次审查请求阶段的修改。未超出原始公开，并不当然满足缩小权利要求范围的要求。删除相分离条件后，第3项可能覆盖原先不涵盖的方法，因此不能认定其范围已缩小。 申请人提出修改后的第3项比原第1项更窄。法院指出，第1项在修改后仍单独存在；若允许以此比较，实际上相当于依据原独立项另外增设权利要求，不符合该阶段的修改限制。本案并非全面禁止改变引用编号，关键在于原有技术限定随引用关系改变而丢失，其他修改也未将其保留。 修改不被接受后，仍需审查创造性 法院继而以修改前的第1项为基础审查创造性。现有技术1使用含金属包覆导电颗粒的各向异性导电树脂组合物，本案则使用金属前驱体，并形成连接电极的金属烧结体。现有技术2公开铜前驱体经烧成形成铜、连接其他铜粉并构成导电路径。法院从实质工艺出发，认为其中包含还原和烧结，不能只因“烧成”与“烧结”用词不同就认定技术不同。 两项现有技术均与电极连接用导电组合物有关，现有技术2还提到各向异性导电片。为改善导电性能，本领域技术人员有动机应用其铜前驱体方案，故第1项不具创造性。申请人主张仅以前驱体形成导电路径，但第1项未排除其他导电颗粒，说明书也有加入颗粒的实施例，不能把该主张视为必要限定。 修改前先展开完整的技术条件 修改引用关系时，应先列出通过每一级引用纳入的全部限定，明确哪些保留、哪些删除、哪些改用其他措辞表达，并结合程序阶段确定比较对象。比宽泛独立项更窄，不等于相对于原从属项有所缩小。 论证技术效果时，也要核对相应条件是否被权利要求要求。特定实施例的效果不能直接代表整个请求保护范围。法院因修改不合法且原第1项缺乏创造性而驳回诉请；一个权利要求存在驳回理由即可导致整件申请被驳回，判决没有逐项否定其他全部权利要求的创造性。 图中保留原始标注与形态，相关内容在正文中说明。 查看韩文原文 本文基于发表时的情况撰写。如需就具体事项咨询，请联系IPLEX。 咨询相关业务 ↗ 全部文章 相关业务：专利与实用新型 ↗ 相关业务：知识产权争议与审判程序 ↗ 本页目录 案件涉及何种技术与程序 引用第2项改成第1项，遗漏了什么 不能只与较宽的独立项比较 修改不被接受后，仍需审查创造性 修改前先展开完整的技术条件 咨询IPLEX 与我们讨论您的需求 保护、维权与管理。 我们将与您共同分析技术与业务需求。 ↗ 联系我们 较新文章 商标不正当使用与混淆的界限 ↗ 较早文章 轨道灯外观设计：连接部为何影响整体印象 ↗ 相关解读 专利与实用新型 2026.10.29 撤回专利申请后，撤销审决诉讼能否继续？ 韩国专利法院2025Heo10510号判决说明，诉讼期间撤回申请如何导致诉的利益消失，以及申请管理与救济程序为何需要统筹安排。 ↗ 阅读全文 专利与实用新型 2026.10.28 萨克斯垫片修复：产品中的工艺限定与创造性 韩国法院结合维修手册和视频，从最终结构审查以制造方法限定的产品权利要求。 ↗ 阅读全文 专利与实用新型 2026.10.27 半导体处理中的湿度范围与创造性 韩国判决从金属抗蚀剂反应机理、数值范围及现有技术结合动机分析创造性。 ↗ 阅读全文

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